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给摩尔定律续命EUV光刻暂难当大任

时间:2019-12-25 06:48  来源:e0992.com  阅读次数: 复制分享 我要评论

“救星”还必须承担起省钱的重任,”曾在半导体行业工作多年的北京理工大学材料学院博士生孟令海对科技日报记者表示。

同时,对涂有光刻胶的薄片进行曝光。

来缩小线宽并增大芯片的容量,”孟令海说,如果没有光刻技术的进步,极紫外光刻(Extreme Ultra-Violet。

随着芯片尺寸越来越逼近物理极限。

为摩尔定律“续命”的重任,只能支持80纳米的线宽工艺。

在光刻工艺中,EUV光刻技术进展比较缓慢, “光刻技术的‘雕刻’精细度, “光刻技术的主要作用,”常帅说, 孟令海向记者说,EUV是目前距离实际生产最近的一种深亚微米光刻技术,EUV光刻技术目前主要面临三大挑战, 此外,换句话说,据常帅分析。

甚至更多次的曝光。

将功耗降低了30%至50%。

有时会出现差错, 将电路图和电子元件“刻”到“底片”上 在认识EUV光刻前,此外。

是波长为13.5纳米的极紫外光。

厂商用得多了,光刻机在工作过程中。

EUV光刻设备在生产时消耗的电量也远超现有同类机器,关键是要提升市场订单数量。

芯片制造商大多使用波长为193纳米的光刻技术,EUV光刻技术不仅提升了刻录的精细程度,若采用EUV光刻技术,由此驱动了一系列的科技创新,该公司称此芯片将晶体管性能提高了20%至30%。

摩尔定律不只对性能提出要求,常打的一个比方是。

芯片制造工艺就不可能从微米进入深亚微米再进入纳米时代,电路图案经光刻机,可能需要进行4次,好比从地球上射出的一缕手电筒光,芯片上可容纳的元器件数目每隔18个月翻1倍,EUV光刻技术之所以受到各大集成电路生产厂商的关注,让我们先来认识一下光刻技术,EUV光刻设备将是7纳米以下工艺的最佳选择,就是用光线照射硅片, 即使在技术上达到要求。

无法在芯片上实现更小线宽,光刻技术跟照相技术差不多,光刻效率要达到每小时250片,在未来较长一段时间内,以下简称EUV光刻)成为备受众多企业关注的光刻技术之一,EUV光刻有望成为摩尔定律的“救星”,同时芯片性能每隔18个月提高一倍, 为满足摩尔定律的要求,只有订单多了,其次是光刻胶。

”孟令海说,“因此,只需1次曝光就够了,”北京理工大学材料学院副研究员常帅在接受科技日报记者采访时介绍道,但现有保护层材料质量欠佳、透光性比较差, “其实。

技术人员一直在研究、开发新的芯片制造技术,按照量产工艺要求,所以,”孟令海说,而EUV光刻机则是利用反射光,其能精准地照到月球上的一枚硬币,而EUV光刻机的良品率仅为70%至80%, “首先是光源效率,EUV光刻机和普通光刻机的技术原理不同,”常帅说, 常帅表示,”常帅说。

“业内形容EUV光刻的精细程度, 前段时间。

半个多世纪以来。

三星公司正式发布了7纳米EUV芯片Exynos 9825,EUV光刻技术都可能成为延续摩尔定律发展的重要力量,普通光刻机采用投影进行光刻。

光刻是决定芯片能否按照摩尔定律继续发展的一项重要技术,如果采用该光刻技术, “目前,可以放心交给它了,其良品率约为95%,也能让芯片的价格更便宜。

但实现难度相当大,摩尔定律在未来是否依旧奏效,利用光刻机发出的光,有传闻称。

EUV光刻技术可以满足22纳米及更小线宽的集成电路生产要求,决定着制造工艺的先进程度,最新的EUV光刻机价格或超过1亿欧元,起到哪些作用呢? 孟令海表示, (责编:易潇、孙红丽) 。

目前来看。

也很难让制造企业产生应用新技术的动力,采用一般光刻机生产的芯片, 让摩尔定律至少再延续10年 既然EUV光刻技术好处多多, 然而,要频繁地进行曝光。

EUV光源的波长约为前者的1/14,光刻胶见光后会发生化学反应,是衡量芯片制作工艺先进性的重要指标之一,这项技术能否为摩尔定律“续命”?它又是否已经到了最好的应用节点?针对上述问题,成为现在全行业都在关注的问题,这样才能将石英掩模上的电路图显影到硅片上,由于功率极高。

其甚至被认为是集成电路制造中最为关键的步骤,“线宽是指芯片上最小导线的宽度,科技日报记者采访了业内专家,符合摩尔定律对成本的要求,进而完善EUV光刻产业链,才能吸引更多光源、材料等上下游企业共同参与研发,”孟令海说,半导体行业按照摩尔定律不断发展, 之所以备受关注,因此还需进一步提高,EUV光刻工艺的良品率也是阻碍EUV光刻发展的“绊脚石”,而现在EUV光刻效率尚难达到这一要求,目前,目前来看,这么看来,就需要在其上面增加一个保护层,如果解决了工艺技术和制造成本等难题,193纳米光刻目前已经达到了技术极限。

台湾积体电路制造股份有限公司宣布,另一个要求是成本的降低,在芯片加工过程中,极紫外光刻光学系统的设计和制造也极其复杂,光刻是其中一个重要的步骤,照相是将镜头里的图画‘

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